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HVSS硬鉻電鍍添加劑

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產品代號: HVSS
產品名稱: HVSS硬鉻電鍍添加劑
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一、消耗量
 
硬鉻電鍍工藝不含氟,陰極效率高,深鍍能力好,成本低,性能穩定。而且可產生硬度達到1000HV、0.1的微裂紋硬鉻。HVSS硬鉻電鍍工藝兼有傳統硫酸型電鍍液的優良特性,只對鐵及鐵合金產生輕微腐蝕,且有良好的陰極電流效率,可達27%(傳統工藝只能依靠含氟的催化劑)。可廣泛應用于耐磨鏡面工件以及印刷機滾筒等各個領域,并且可在各種基材上鍍出所需的厚度。
 
二、開缸(100L)
      鉻酸酐    30公斤
       HVSS添加劑            5升 
配槽步驟
1.徹底清洗鍍槽;
2.向鍍槽加入三分之二的去離子水(不能含有氯離子), 加熱至50℃左右;
3.在連續攪拌條件下逐步加入所需數量的鉻酸;
4.待鉻酸完全溶解后, 邊攪拌邊加入HVSS添加劑。
注意:不需要加硫酸
5.將溶液混勻后, 加去離子水至最終體積;
6.掛入陽極;
注意:新的鉛或鉛合金陽極要帶電下槽
7.用陰極板電解2-3小時,要大陰極小陽極,電流密度30-40 A/dm2
8.鍍液配好可以使用。
三、設備
槽    體     PP或PVC襯里的鋼槽
加熱/冷卻 特覆隆加熱圈/冷卻圈,或鈦管。
掛    鉤 銅或鍍鎳的銅
四、操作條件
 

主要成分,工藝參數

       最佳

范圍

溫度 

55

42℃~60

陰極電流密度

50 A/d

10100A/d

陽極電流密度

15 A/d

530A/d

電壓及整流器

依據情況不同,可分為515V,波紋小于5%

陽極攪拌

不需。應盡量使用滾動攪拌

空氣攪拌

建議不用

過濾

從一個槽過濾到另一個槽,僅在鍍液反常時使用

鍍速

55 A/d55℃時,約為1μm/min

鍍液成分

鉻酐                               

240320g/L   建議新開缸用到300

硫酸:鉻酐

1.11.4%

密度(新開缸、鉻酐濃度為300g/L時)

1.215g/cm3

25.5°Be

五、鍍液的補充與維護

1. 維護:

                 范圍

鉻酸 240 ~300 g/L

硫酸 1.1~ 1.4%   (與鉻酸的濃度有關)

 

2. 鍍液的補充:

如需添料,請在測量波美或分析后進行。一般,每周需測一次波美。鍍液密度會在電鍍過程中下降,每添加大約1.5㎏鉻酸酐可使100升鍍液升高1°Be,每添加100公斤鉻酸酐需補加HVSS 8-10升。

正確調整硫酸根含量通過分析數據分步處理:

> 提高1克/升單位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析純硫酸(98%)

> 降低1克/升單位的硫酸根需要加2克/升碳酸鋇

六、HVSS添加劑的影響
1. 濃度太低,鍍層會出現乳白色或者變暗;濃度過高,會降低所用電流密度的最大值,并導致鍍層在高區燒焦或出現核狀鍍層。
2. 如果添加劑補充過多,只能稀釋鍍液。所以建議按比例加入添加劑,帶出量及再循環量也會影響添加量。
七、雜質
1. 三價鉻的濃度一般3-8克比較好,不能超過15g/L,如超過必須用40-50A/dm陰極電流密度下進行電解,且使陰極面積是陽極面積的15-20%。
2. 必須嚴格控制帶入鍍液里Fe、Cu、Ni和Zn雜質。
八、廢水處理
廢水中含有Cr6+離子。在pH值調節到2.0 - 2.5以后,Cr6+離子可以用亞硫酸氫鈉還原成Cr3+在充分的反應之后, 用NaOH溶液調節pH值至8.5 - 9.0 , 使Cr3+生成氫氧化鉻(III)沉淀。分離出的沉淀及過濾出的氫氧化物泥, 當作廢物處理掉。
鍍液含六價鉻化合物及重金屬雜質,比如鐵和銅雜質。
水洗及濃縮廢液的處理必須符合當地環保標準。
 
九、分析方法
鉻酸的分析:
試劑:

H2SO4                1:10

KI溶液               100g/L

淀粉溶液            20g/L

Na2S2O3溶液      0.1N 

 

 步驟

1.取10mL鍍液至500mL容量瓶中;

2.取10mL①的鍍液至300 mL錐形瓶;

3.依次加入:50 ml水,10mL碘化鉀溶液,50mL 1:10的H2SO4

4.加硫代硫酸鈉溶液滴定,直到棕色褪去;

5.加5 mL淀粉溶液滴定,直到變為無色,有時會出現淡綠色。

 
計算
g/L鉻酸 = 硫代硫酸鈉的滴定體積(mL)× 16.7

 

 



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